第四百五十六章：竞争与进步

，因为技术，材料等方面的问题，现在技术研究几乎已经进入到了瓶颈！

    而在阿斯麦那边则是过上个一段时间就有些消息传出来，不是在光源上有了进展就是在材料上有了突破。

    其实对于阿斯麦放出的各种烟雾弹苏炎并不是太担心，毕竟现在关于下一代光刻机在光源问题上的方向分别是157nm f2激光，电子束投射，离子投射以及euv和x光，因为euv属于软x光，所以和x光的研究算在一个领域。

    现在全球研究euv的企业和机构几乎超过200家，但研究157nm f2激光的企业和机构超过300家...

    而且绝大部分企业和机构都是多个方向一起研发，尤其是ibm，四个方向一起研发。

    当时搞157nm f2激光搞得最好的就是svg跟尼康，而当时搞euv搞的最好，也是投入最大的企业，正是英特尔。这也是为什么最近英特尔跳出来高喊要靠euv打造下一代光刻机。

    可以说现在英特尔等为首的就是第一梯队，而第二梯队就是以华夏的神秀科技和日本的尼康，佳能为首的联盟，至于说其他的完全不足为惧。

    神秀科技在华夏也是找上了包括国内知名理科院校以及像是长光所等机构充当盟友，增强力量。远在日本的尼康和佳能也没有闲着，先是找到了包括日本电气股份，三菱，东芝等一众企业随后同样是和日本本土的研究机构以及政府寻求支持。

    而就在华夏和日本两国动起来的时候，阿斯麦那边也是在内部开始了关于现在研究进度的讨论，在内部的讨论中根据众人的分析，目前想要攻克euv光刻机最大的难题，就是光源问题，只要解决了光源问题，其他的问题完全可以靠着科技底蕴硬怼下来。

    经过一段时间的研究，它们也是发现在光源这块确实很难，euv在穿透物体的时候散射吸收是个巨大的问题，这就需要光刻机需要非常强大的光源，再加上euv连空气都能吸收，所以机器内部还得做成真空的，再加上内部各种精密的零部件这对于工艺来说同样是一个巨大的考验。

    而且由于光刻精度是几纳米，euv对光的集中度要求极高，相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。反射要求镜子长30cm且镜面的起伏不到0.3纳米，这相当于是燕京到沪上做根铁轨起伏不超过1毫米。

    所以euv不仅是顶级科学的研究，也是顶级精密制造的学问。

    一台euv光刻机重达180吨，其中超过了10万个零件，需要四十个集装箱运输，安装调试都要超过一年时间，可以说真的是没有一定的技术储备，设计图纸给你你都造不出来。

    其实euvllc联盟早在1997年便已经成立，在97年到03年的六年间，euvllc的科学家发表了几百篇论文，验证了euv光刻机的可行性，然后euvllc联盟解散。

    虽然说是解散但是实际上不过是移交到了阿斯麦手里，阿斯麦几乎是全部继承了euvllc联盟关于euv光刻机方面的知识，而现在英特尔重新号召不过是为了加大投入想要抢先一步研制出来，毕竟以前没有对手完全可以慢慢来，但是现在有了对手出现，在慢慢发展显然不可行了，就像当初美苏冷战的军事竞赛一样，科技简直是迅猛发展航天就是在当时的背景下迅速进步的。

    而就在eucllc讨论如何解决光源问题得到时候，华夏突然宣布，将kbff晶体列为战略资源，不再对外出口。

    asml：......

    英特尔：......

    APC:......